Chapter 4. Trockenätzverfahren

  1. Dr. Michael Köhler

Published Online: 28 JAN 2005

DOI: 10.1002/3527602917.ch4

Ätzverfahren für die Mikrotechnik

Ätzverfahren für die Mikrotechnik

How to Cite

Köhler, M. (1998) Trockenätzverfahren, in Ätzverfahren für die Mikrotechnik, Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim, FRG. doi: 10.1002/3527602917.ch4

Author Information

  1. Institut für Physikalische Hochtechnologie e.V. Jena, Helmholtzweg 4, D-07743 Jena, Germany

Publication History

  1. Published Online: 28 JAN 2005
  2. Published Print: 26 FEB 1998

ISBN Information

Print ISBN: 9783527288694

Online ISBN: 9783527602919

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Keywords:

  • Trockenätzverfahren;
  • Ätzen in der Gasphase;
  • Plasma-Ätzverfahren;
  • Geometrie-Einfluß;
  • Ätzen mit energetischen Teilchen;
  • reaktives Ätzen;
  • elektronenstrahlgestütztes Ätzen;
  • Ätzen mit fokussierten Ionenstrahlen;
  • Materialschäden

Summary

  • Abtrag an der Grenzfläche fest-gasförmig

  • Plasmafreies chemisches Ätzen in der Gasphase

    • Plasmafreies Trockenätzen mit reaktiven Gasen

    • Photogestütztes Trockenätzen mit reaktiven Gasen

    • Direktschreibende Mikrostrukturierung durch Laserscanning-Ätzen

    • Elektronenstrahlgestütztes Dampfätzen

  • Plasma-Ätzverfahren

    • Materialabtrag durch Reaktionen mit Plasmaspezies

    • Plasmaerzeugung

    • Plasmaätzen im Rohrreaktor

    • Plasmaätzen im Downstream-Reaktor

    • Plasmaätzen im Planarreaktor

    • Magnetfeldgestütztes Plasmaätzen

    • Plasmaätzen bei niedrigem Druck und hoher lonendichte

    • Ausbildung der Ätzstrukturen beim Plasmaätzen

    • Geometrie-Einfluß auf das Plasmaätzen

    • Plasma-Jet-Ätzen (Plasma Jet Etching; PJE)

    • Anwendungen des Plasmaätzens

  • Ätzen mit energetischen Teilchen

    • Sputterätzen

    • Reaktives lonenätzen (Reactive Ion Etching; RIE)

    • Magnetrongestütztes Reaktives lonenätzen (Magnetic Field Enhanced Reactive Ion Etching; MERIE)

    • lonenstrahlätzen (Ion Beam Etching; IBE)

    • Reaktives lonenstrahlätzen (Reactive Ion Beam Etching; RIBE)

    • Magnetfeldgestütztes reaktives lonenstrahlätzen (Magnetic Field Enhanced Reactive Ion Beam Etching; MERIBE)

    • Chemisch unterstütztes lonenstrahlätzen (Chemical Assisted Ion Beam Etching; CAIBE)

    • Reaktives Ätzen mit Anregung aus mehreren Quellen

    • Elektronenstrahlgestütztes reaktives Ätzen (Electron Beam supported Reactive Etching; EBRE)

    • Reaktives Ätzen mit fokussierten lonenstrahlen (Focused Ion Beam Etching; FIB)

    • Nanoteilchen-Strahlätzen (Nano-particle Beam Etching; NPBE)

    • Ausbildung der Strukturflanken-Geometrie beim lonenstrahlätzen

    • Materialschäden beim Ätzen mit energetischen Teilchen

    • Anwendung der Ätzverfahren mit energetischen Teilchen