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Abstract

Es wird über eine an polykristallinen PbS-Schichten auftretende Photo-EMK berichtet, welche nach Größe und Vorzeichen von der Einfallsrichtung des Lichtes abhängt. Als Entstehungsursache dieser Photo-EMK werden von Sauerstoffadsorption herrührende Oberflächenzustände angesehen. Unter dieser Voraussetzung werden Rückschlüsse auf den Schichtenaufbau und den Reaktionsmechanismus bei Belichtung gezogen. Ferner werden Untersuchungen an PbS-Schichten mitgeteilt, welche nach Formierung in einem Temperaturgradienten eine beträchtliche Unsymmetrie in der Winkelverteilung der Photo-EMK zeigen. Dieses Verhalten kann auf Grund einer Thermodiffusion von Gitterstörstellen erklärt werden.