Über die Felddesorption von Magnesium, Rubidium und Silber

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Abstract

Im Höchstvakuum werden die elektrischen Feldstärken gemessen, die zum Abreißen verschiedener Ionen (Rb, Mg, Ag) von der glatten Oberfläche einer Wolframeinkristallspitze erforderlich sind. Die gemessenen Abreißfeldstärken sind von der gleichen Größenordnung und nehmen in der gleichen Reihenfolge zu (Rb-Mg-Ag), wie die Bildkraft des betreffenden Ions vor der Metalloberfläche; sie sind im Bereich von −193 bis 25 °C nur wenig temperaturabhängig. Rechnet man entsprechend der Bildkraft mit einem quadratischen Kraftgesetz, so kommt die aus den Abreißfeldstärken berechnete Bindungsenergie der Ionen erheblich kleiner heraus, als ihre „Verdampfungswärme”, die sich mit Hilfe eines von Langmuir und Kingdon angegebenen Kreisprozesses aus anderen Daten berechnen läßt; dies deutet darauf hin, daß außer der Bildkraft noch eine vor der Metalloberfläche befindliche negative Raumladung zur Bindung des Ions wesentlich beiträgt.

Die an dünnen Wolframoxyd- und -carbidschichten beobachteten niedrigen Werte der Abreißfeldstärke werden auf die Struktur und geringe Leitfähigkeit dieser Schichten zurückgeführt.

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