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Abstract

Für elektronenoptische Felder mit rotationssymmetrischem elektrischem Anteil, elektrischem Vierpolanteil und magnetischem Vierpolanteil wird angegeben, wie in paraxialer Näherung und auf wellenmechanischer Grundlage aus der Wellenfunktion in der Objektebene die Intensitätsverteilung in einer beliebigen, hinter der Objektebene liegenden Einstellebene gefunden wird. Als Spezialfall ist die paraxiale wellenmechanische Abbildung in elektrischen Zylinderlinsen und in reinen Quadrupollinsen enthalten.

The paraxial electron optical imaging in a system of quadrupoles on the wave mechanical basis.

For a system of electrostatic round lenses and electrostatic and magnetic quadrupoles it was investigated, how the intensity distribution in any arbitrary plane may be found from the wave function in the object plane on the basis of paraxial and wave mechanical approximation. The paraxial wave mechanical imaging in electrostatic cylindrical lenses and in exact quadrupole lenses is contained as a special case.