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Keywords:

  • Diazonaphthochinone;
  • Mikrolithographie;
  • Novolakresiste;
  • Perkolationstheorie;
  • Photographische Materialien

Abstract

Dieses Jahr werden etwa zwanzig Milliarden integrierte Schaltkreise weltweit produziert. Fast alle (98%) werden mit einem photoempfindlichen Lack hergestellt, der die Übertragung eines feinen Linienmusters von einem Originaltransparent auf einen Silicium-Wafer ermöglicht. Dieser Photoresist besteht aus zwei Komponenten: einem Novolakharz (einem Phenol-Formaldehyd-Kondensationspolymer mit geringem Molekulargewicht) und einem Diazonaphthochinon (DNC)-derivat, das den photoaktiven Teil des Systems ausmacht. Novolak-Diazochinon-Resiste haben eine entscheidende Rolle bei der Miniaturisierung der Elektronik gespielt. Es sind photographische Materialien mit extrem hoher Auflösung, die Motive bis zu 0.25 μm abbilden können. Obwohl sie heute in der modernen Computertechnologie unentbehrlich sind, wurde ihr molekularer Mechanismus bis vor kurzem nicht verstanden. Wir berichten hier über Arbeiten an der Polytechnic University in New York, die zum Ziel haben, die Funktionen dieser wichtigen und faszinierenden Materialien zu ergründen.