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Covalently Attached Monolayers on Hydrogen-Terminated Si(100): Extremely Mild Attachment by Visible Light

Authors


  • We thank the research school VLAG, the Netherlands Technology Foundation STW and the Human Frontier Science Program for financial support, and Cees Heijboer and Dr. Richard White (Thermo), and Dr. Klaus Simon (ASML) for stimulating discussions. Finally, we are thankful to a referee for constructive suggestions towards improvements of the manuscript.

Abstract

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Mild und praktisch: Eine Methode zur Beschichtung flacher Siliciumoberflächen mit organischen Monoschichten unter Bestrahlung mit sichtbarem Licht (447 nm; siehe Schema) wurde entwickelt, und der Mechanismus des Prozesses wurde untersucht. Mit winkelauflösender Röntgenphotoelektronenspektroskopie (ARXPS) konnten Tiefenprofile der Atomsorten in der Monoschicht (ca. 2 nm Dicke) gemessen werden.

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