Topographically Flat, Chemically Patterned PDMS Stamps Made by Dip-Pen Nanolithography

Authors

  • Zijian Zheng Dr.,

    1. Department of Chemistry and International Institute for Nanotechnology, Northwestern University, 2145 Sheridan Road, Evanston, IL 60208-3113 (USA), Fax: (+1) 847-567-5123
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  • Jae-Won Jang Dr.,

    1. Department of Chemistry and International Institute for Nanotechnology, Northwestern University, 2145 Sheridan Road, Evanston, IL 60208-3113 (USA), Fax: (+1) 847-567-5123
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  • Gengfeng Zheng Dr.,

    1. Department of Chemistry and International Institute for Nanotechnology, Northwestern University, 2145 Sheridan Road, Evanston, IL 60208-3113 (USA), Fax: (+1) 847-567-5123
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  • Chad A. Mirkin Prof.

    1. Department of Chemistry and International Institute for Nanotechnology, Northwestern University, 2145 Sheridan Road, Evanston, IL 60208-3113 (USA), Fax: (+1) 847-567-5123
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  • C.A.M. acknowledges the AFOSR, DARPA, and NSF for support of this research. C.A.M is also grateful for the NIH Director's Pioneer Award and a NSSEF Fellowship from the DoD.

Abstract

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DPN nützt μCP: Die spezifischen Nachteile konventioneller Mikrokontaktdruckverfahren – Stempeleinbruch und laterale Tintendiffusion – lassen sich durch die Verwendung von topographisch flachen, chemisch gemusterten PDMS-Stempeln umgehen. Die durch Dip-Pen-Nanolithographie (DPN) gefertigten Stempel wurden zum Kontaktdrucken verschiedener Tinten, einschließlich Thiolen, Proteinen und hydrophilen Farbstoffen, genutzt. Die frisch erzeugten Muster können Auflösungen unter 100 nm und einen sehr niedrigen Füllfaktor erreichen (siehe AFM-Bild).

Ancillary