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On-Wafer Crystallization of Ultralow-κ Pure Silica Zeolite Films

Authors


  • κ is the relative dielectric constant of the material. We thank Steven McDaniel at CFAMM of UCR for assistance in obtaining TEM images. We acknowledge financial support from the NSF (CTS-0404376) and the Semiconductor Research Corporation through collaboration with Intel Corporation.

Abstract

Höhere Ziele: Ein waferbasierter Kristallisationsprozess zur Herstellung von MEL-Filmen aus Silica-Zeolith stellt eine Verbesserung gegenüber den üblichen Hydrothermalverfahren dar. Die streifenfreien MEL-Filme (rechts) sind durch Schleuderbeschichtung erhaltenen Filmen (links) hinsichtlich κ-Wert, mechanischen Eigenschaften, Rauigkeit, Mesoporengröße und Größenverteilung überlegen.

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