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Siliciumverbindungen von Neon und Argon

Authors

  • Jana Roithová Dr.,

    1. Department für Organische Chemie, Karls-Universität in Prag, Hlavova 8, 12843 Prag 2 (Tschechische Republik)
    2. Institut für Organische Chemie und Biochemie, Akademie der Wissenschaften der Tschechischen Republik, Flemingovo náměstí 2, 16610 Prag 6 (Tschechische Republik), Fax: (+42) 220-183-462
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  • Detlef Schröder Dr.

    1. Institut für Organische Chemie und Biochemie, Akademie der Wissenschaften der Tschechischen Republik, Flemingovo náměstí 2, 16610 Prag 6 (Tschechische Republik), Fax: (+42) 220-183-462
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  • Diese Arbeit wurde von der Akademie der Wissenschaften der Tschechischen Republik (Z40550506), dem Europäischen Forschungsrat (AdG HORIZOMS), der Grant Agency of the Czech Republic (203/09/1223) und dem Ministry of Education of the Czech Republic (MSM0021620857, RP MSMT 14/63) unterstützt.

Abstract

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Bimolekulare Stöße massenselektierter SiF32+-Dikationen mit Argon führen zu dem ArSiF22+-Dikation als Hauptprodukt bei thermischen Energien. Das Dikation weist eine kovalente Ar-Si-Bindung auf und ist damit der erste Vertreter einer neuen Klasse von Edelgasverbindungen. Trotz wesentlich kleinerer Ausbeuten wird auch für die analoge Neonverbindung NeSiF22+ ein eindeutiges Signal beobachtet. Somit können mit dem SiF32+-Dikation als Elektrophil neuartige Edelgasverbindungen in thermischen Ion-Molekül-Reaktionen erhalten werden.

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