Self-Cleaning Functional Molecular Materials

Authors


  • The authors thank Prof. C. N. R. Rao for constant support, JNCASR, IYBA-DBT Grant, and DST, India for financial support; Prof. G. U. Kulkarni for FESEM, Prof. S. K. Biswas, IISc for the contact-angle analyzer facility; and Selvi, Basavaraja, Suma, Chidanand, Vatsala, and Piyush for their help in various measurements.

Abstract

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Waschen und Polieren: Ein einfaches lösungsbasiertes Verfahren führt über eine spontane hierarchische Aggregation zu Mikroanordnungen eines Naphthalindiimid-Derivats. Mithilfe dieser Methode wurden weiterhin selbstreinigende Oberflächen mit sehr kleinem Abgleitwinkel (3°) und sehr kleiner Hysterese für den Kontakwinkel (1°) erhalten.

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