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Une nouvelle technologie d'appareils de dépôt chimique en phase vapeur. Partie 1 : Présentation et analyse des résultats expérimentaux

Authors


Abstract

Cet article présente une nouvelle technologie d'appareils de dépôt chimique en phase vapeur qui a été développée afin de supprimer plusieurs problèmes rencontrés dans l'industrie microélectronique. En outre, cette technologie permet de concevoir un modèle réduit parfaitement représentatif du réacteur industriel, très utile pour effectuer des développements plus rationnels de nouvelles applications. La première partie de cet article décrit les réacteurs puis présente et analyse un ensemble de résultats expérimentaux. Quatre types de dépôts, de complexité croissante, ont été choisis pour effectuer une comparaison détaillée entre les performances de la nouvelle technologie et celles des réacteurs que les industries microélectroniques utilisent classiquement.

Abstract

This paper presents a new technology for CVD reactors, developed in order to solve several practical problems which limit the efficiency of thin films manufactured in the microelectronic industry. This technology can be scaled down into a perfectly representative small scale pilot plant, very useful for a more rational development of new industrial applications. The first part of the article deals with a description of the equipment, presentation and analysis of a series of experimental results. Four different deposits, of increasing complexity, have been selected for a detailed comparison between the new technology presented here and the classical equipment used in the microelectronic industry.

Ancillary