SEARCH

SEARCH BY CITATION

Keywords:

  • CVD en lit fluidisé;
  • dépôt de silicium;
  • silane;
  • agglomération;
  • simulation

Abstract

Le dépôt CVD de silicium à partir de silane sur des poudres d'un lit fluidisé constitue une technique de modification de surface efficace et flexible, qui présente cependant l'inconvénient majeur de voir la couche de particules s'agglomérer au-delà d'une certaine concentration d'entrée en réactif. C'est pour progresser dans la compréhension de ce phénomène que des conditions opératoires jusqu'alors peu explorées, couvrant des températures inférieures à 550°C, ont été étudiées à la fois expérimentalement et par voie théorique, à l'aide de modèles globaux de simulation de type Kato et Wen. L'influence des principaux paramètres opératoires a été analysée en détail, non seulement sur le plan de l'efficacité globale du procédé, mais aussi en ce qui concerne le comportement thermique du lit fluidisé, directement lié aux mouvements des particules solides, et done à I'éventuelle prise en masse de la couche.

Chemical vapour deposition of silicon from silane on fluidized powders is an efficient and flexible surface modification technology; however, its main drawback is the agglomeration of the fluidized particles beyond a critical initial concentration of silane. To clarify this phenomenon, we have studied the influence of operating conditions covering temperatures lower than 550°C, both experimentally and theoretically using the simulation model of Kato and Wen (1969). The influence of the main operating parameters has been accurately determined not only on the process throughput but also on the thermal behaviour of the bed, which is directly linked to the solid phase motion and then to the possible agglomeration of particles.