Conduction Band Edge Charge Densities in HgxCd1−xTe

Authors

  • H. Aourag,

    1. Laboratoire d'Optique Départment de Physique, Institut de Science Exactes, Université d'Oran Es-sénia
    Current affiliation:
    1. Institut d'Electronique, Université de Sidi-Belabbes, 22000. Sidi-Belabbes, Algeria
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  • B. Khelifa,

    1. Laboratoire d'Optique Départment de Physique, Institut de Science Exactes, Université d'Oran Es-sénia
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  • M. Rezki,

    1. Laboratoire d'Optique Départment de Physique, Institut de Science Exactes, Université d'Oran Es-sénia
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  • A. Tadjer

    1. Laboratoire d'Optique Départment de Physique, Institut de Science Exactes, Université d'Oran Es-sénia
    Current affiliation:
    1. ENIE Sidi-Belabbes, 22000, Sidi-Belabbes, Algeria
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  • 31100 Es-sénia. Algeria.

Abstract

On the basis of the charge densities at the conduction band edge Xc the effect of interstitial impurities on the modification of the band structure of the system HgxCd1−xTe is explained. The inversion of the symmetry state at Xc in relation to x bears information on the semimetal-semiconductor transition.

Abstract

Auf der Grundlage der Ladungsdichten an der Leitungsbandkante Xc wird der Einfluß von Zwischengitterstörstellen auf die Modifizierung der Bandstruktur im HgxCd1−xTe -System erklärt. Die Inversion des Symmetriezustands bei Xc bezüglich x ergibt Informationen über den Halbmetall-Halbleiter-Übergang.

Ancillary